P140(10微米)/ S140(10微米,带拼接)

2017-06-01

nanoArchTM是采用PμLSE(面投影微立体光刻)技术,用于实现高精度多材料微纳尺度3D打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化,逐层累加从而完成产品的制作。通过一次曝光可以完成一层的制作,具备成型效率高、生产成本低、打印精度高等突出优势,并能实现多材料的微纳尺度材料三维打印。微结构分辨率可达10μm。nanoArch™ P140/S140 的XY 打印精度高达到10μm,Z向打印精度10μm,打印幅面14.5*8.2 mm2,可扩展到73*50 mm2,普遍适用于高?;蚩蒲性核目蒲笛?,以及企业研发等,应用在血管支架,微通道,微连接器,微流控芯片,太赫兹器件等领域。

在微纳加工领域,BMF Material拥有多年的实践经验,针对客户在设备使用中可能出现的工艺难题,提供简易高效的技术支撑方案;并可帮助客户挖掘广泛的科学家研究网络,促进材料研究。

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